機械人
路透社獨家報導，中國科學家成功在深圳高度保安實驗室，製作出極紫外光刻機（EUV）原型機。該原型機已於2025年初完成，現正測試中，佔據近整層廠房空間。消息人士透露，研發團隊由多名前荷蘭半導體巨頭ASML的工程師組成，透過逆向工程複製ASML的EUV技術。
原型機目前可成功產生極紫外光，但尚未製造出可使用的晶片。ASML行政總裁Christophe Fouquet今年4月曾稱，中國需要「很多很多年」才能開發此技術。不過，這部原型機現在真的生產出來，中國達成半導體自主的速度，可能比外界預期快幾年。消息人士指，中國政府設定目標在2028年前用原型機生產出可用晶片，但接近項目的人士認為，較實際的目標是2030年。
這項突破標誌著中國六年來追求半導體自主的成果，是國家主席習近平的首要任務之一。消息人士表示，項目屬國家半導體戰略一部分，由習近平親信領導的中央科技委員會統籌。中國電子巨頭華為在項目中擔當關鍵角色，統籌全國多間企業和國家研究所，牽涉數千名工程師。消息人士形容，這是中國版的「曼克頓計劃」。
一名資深中國工程師從ASML被招募後，驚訝發現簽約獎金附帶一張假名身分證。進入實驗室後，他認出其他前ASML同事也用假名工作，並被指示使用對方的假名以保密。另一消息人士獨立確認，新招募人員獲發假身分證，避免其他工人知道他們的真實身分。
團隊包括近期退休、在中國出生的前ASML工程師和科學家，他們擁有敏感技術知識，但離開公司後面對較少職業限制。兩名在荷蘭的ASML中國籍僱員向路透社表示，自2020年起已被華為招聘人員接觸。中國自2019年起積極招募海外半導體專家，提供300萬至500萬元人民幣起的簽約獎金和購房補貼。
ASML最先進的EUV光刻機體積龐大，重達180噸。深圳實驗室多次嘗試複製同等尺寸失敗後，決定將原型機造得更大，以提升功率輸出。中國原型機技術上落後ASML，主要原因是難以取得精密光學系統，特別是德國Carl Zeiss供應的關鍵零件。
為取得所需零件，中國從舊ASML機器拆出零件，亦有透過二手市場從ASML供應商採購零件。消息人士稱，有時會利用中介公司網絡掩飾最終買家。約100名應屆大學畢業生組成的團隊，專注逆向工程EUV和DUV光刻機的零件。每名工人的辦公桌都有獨立攝影機拍攝，記錄他們拆卸和重組零件的過程。
華為有一些員工被派往全國各地辦公室、製造廠和研究中心參與項目。被安排至半導體團隊的員工經常在公司過夜，工作日更禁止回家。處理較敏感任務的團隊，更被限制使用電話。就算是華為內部，只有很少員工知道相關項目。
ASML就今次報道向路透社確認，從未向中國客戶出售任何EUV系統。可是，二手市場提供的舊ASML機器零件，讓中國得以建造國產原型機。消息人士稱，雖然中國在光學系統等關鍵領域仍面對挑戰，但原型機現在已完成，西方技術封鎖未能完全阻止中國。
